Temat fotowoltaiki pojawił się kilka lat temu wraz z ofertami firm, które instalowały panele fotowoltaiczne na dachach domów. Oferta była ciekawa ale fachowcy w rodzinie ostrzegali, że w polskich warunkach oszczędna instalacja może grozić pożarem dachu. Kilka lat minęło i co drugi dom ma panele na dachu, a ja czekam na nowe ogniwa fotowoltaiczne, które będą bezpieczne i tańsze cenowo w stosunku do obecnych paneli. Taką alternatywa mogą być perwoskity, które robia furorę na świecie, tym bardziej, że krajowa firma Saule Technologies Pani Olgi Malinkiewicz uruchomiła linie produkcyjne ogniw perwoskitowych. Krótki przegląd patentowy z tego zakresu rozpoczyna patent, który rozpoczął boom w produkcji krzemowych paneli fotowoltaicznych.
PL201280 Sposób wytwarzania modułu fotowoltaicznego, ISOVOLTA AG, Albert Plessing, Data patentu: 31.03.2009.
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania modułu fotowoltaicznego, w postaci laminatu, który zawiera układ ogniw słonecznych oraz warstwy materiałów osłonowych. Moduły fotowoltaiczne służą do wytwarzania energii elektrycznej ze światła słonecznego. Wytwarzanie energii realizuje się przy tym dzięki układowi ogniw elektrycznych, który jest korzystnie utworzony z ogniw krzemowych. Jednak nadają się one jedynie do niewielkich obciążeń mechanicznych i dlatego muszą być otoczone z obu stron materiałem osłonowym. Jako materiał osłonowy stosuje się na przykład jedną lub szereg warstw ze szkła i/lub folii z tworzywa sztucznego i/lub folii zespolonych z tworzywa sztucznego.
Wynalazek zilustrowano w przykładzie modułu fotowoltaicznego przedstawionego na rysunku, na którym fig.1 przedstawia budowę fotowoltaicznego modułu, fig.1a i 1b przedstawiają alternatywne warstwy osłonowe z fig.1,fig.2 przedstawia urządzenie do laminowania, stosowane w sposobie według wynalazku, fig.3 przedstawia wykres przepu- szczalności światła dla folii, a fig.4 przedstawia porównanie przepuszczalności pary wodnej, a następnie wynalazek objaśniono w przykładach realizacji sposobu wytwarzania modułu fotowoltaicznego.
Fotowoltaiczny moduł 1, jak przedstawiono na fig.1 składa się z układu ogniw słonecznych 2 i warstw materiałów osłonowych 3,3′, otaczających układ ogniw słonecznych. Układ ogniw słonecznych 2 jest wykonany z szeregu ogniw krzemowych 8, które są lutowane seryjnie za pomocą drutów stykowych 9 w grupy. Materiał osłonowy 3′ składa się z warstwy uszczelniającej 4′ z tworzywa sztucznego i folii lub folii zespolonej z tworzywa sztucznego stanowiącej warstwę zaporową 6, która na stronie powierzchni górnej, zwróconej do układu ogniw słonecznych 2, zawiera oddzieloną z fazy parowej nieorganiczną warstwę tlenku 7. Tak powstaje struktura warstwowa I modułu. Materiał osłonowy 3 składa się korzystnie z warstwy 5, którą korzystnie stanowi warstwa szkła albo warstwa zespolonego tworzywa sztucznego, podobnego do zespolonego tworzywa sztucznego warstwy zaporowej 6, oraz warstwa uszczelniająca 4 z tworzywa sztucznego.
Na fig.2 jest przedstawione urządzenie 13 stosowane w procesie wytwarzania modułu fotowoltaicznego według wynalazku, do laminowania przedstawionych na fig.1 warstw tworzących fotowoltaiczny moduł 1. Urządzenie to zawiera stanowisko załadunku 14, w którym stos modułu 1 nakłada się na płytę nośną 15, którą przesuwa się za pomocą systemu transportowego 16, jak również zespół próżniowego laminowania 17 z nieruchomą górną częścią 18 oraz podnoszoną i opuszczoną za pomocą urządzenia hydraulicznego 20 dolną częścią 19. Temperatura, ciśnienie i czas przebywania w zespole próżniowego laminowania 17 nastawia się za pomocą systemu regulacji 22. Ponadto na fig.2 jest pokazany piec do hartowania 23, którego temperaturę nastawia się za pomocą systemu regulacji 24, obszar chłodzenia 25, którego temperaturę nastawia się za pomocą systemu regulacji 26 oraz obszar odbioru 27. Na fig.3 przedstawiono wykres przepuszczalności światła dla folii z tworzywa sztucznego stanowiącego warstwę zaporową 6, naparowanej nieorganiczną warstwą tlenku, w różnych zakresach długości fal. Na fig.4 jest przedstawione, jak dalece w przypadku fotowoltaicznego modułu 1, wytworzonego sposobem według wynalazku, poprawione jest działanie zaporowe wobec pary wodnej, dzięki warstwie tlenkowej 7, oddzielonej z fazy parowej.
PL232670 Szyba zespolona, ML SYSTEM, DAWID CYCOŃ, Data patentu: 31.07.2019. Celem wynalazku jak i zagadnieniem technicznym wymagającym rozwiązania jest opracowanie prostej i zwartej konstrukcji uniwersalnej szyby zespolonej, pozwalającej na pełnienie zarówno funkcji generatora energii elektrycznej z ogniw fotowoltaicznych jak i promieniowania podczerwieni z warstwy TCO pozwalających na ogrzewanie wnętrz pomieszczeń wyposażonych w okna lub przegrody budowlane z tymi szybami. Podstawową zaletą szyby zespolonej według wynalazku jest to, że to rozwiązanie techniczne łączy w sobie funkcje generatora energii elektrycznej z ogniw fotowoltaicznych, korzystnie wykonanych techniką DSSC (Dye-sensitized solar cel-Ogniwo słoneczne uczulane barwnikiem) oraz z promiennika podczerwieni, zapewniając ogrzewanie wnętrz powierzchni użytkowych. Konstrukcja szyby zespolonej według wynalazku pozwala na wykorzystanie jej jako podstawowego lub dodatkowego źródła energii cieplnej w pomieszczeniach użytkowych. Szyba ta bowiem poprzez jej ogniwo fotowoltaiczne generuje energię elektryczną z padającego na nią promieniowania słonecznego, która może zostać użyta na przykład do wspomagania zasilania promiennika podczerwieni, którego funkcję pełni warstwa przeźroczystego i przewodzącego prąd elektryczny tlenku metalu (TCO), naniesiona na jednej z szyb tej szyby zespolonej.
Przedmiot wynalazku uwidoczniono w przykładach jego wykonania na rysunku, na którym fig.1 i fig.2 przedstawia pierwszą wersję jego realizacji, a fig.3 i fig.4–drugą wersję jego realizacji, przy czym fig.1 przedstawia szybę zespoloną okna wyposażoną w ramkę dystansową w widoku perspektywicznym, fig.2–tę samą szybę zespoloną w przekroju wzdłuż linii A-A, fig.3– szybę zespoloną okna lecz pozbawioną wewnętrznej ramki dystansowej w widoku perspektywicznym, a fig.4 – tę samą szybę w przekroju wzdłuż linii B-B.
Szyba zespolona przeznaczona jako wyposażenie okna składa się z dwóch kwadratowych zestawów płaskich płyt szklanych – wewnętrznego 1 i zewnętrznego 2, usytuowanych równolegle względem siebie i oddzielonych od siebie aluminiową ramką dystansową 3, wypełnioną materiałem pochłaniającym wilgoć, przy czym wewnętrzna powierzchnia płyty szklanej 4 zestawu wewnętrznego 1 od strony tej ramki pokryta jest warstwą przeźroczystego i przewodzącego elektrycznie tlenku metalu 5 będącego tlenkiem cyny domieszkowanym fluorem (SnO2F), której oba przeciwległe sobie końce na wysokości tej ramki oraz w pobliżu krawędzi tej płyty szklanej 4 pokryte są srebrnymi elektrodami 6, które z kolei połączone są z przewodami 7 oprowadzającymi do nich prąd elektryczny o napięciu stałym wynoszącym powyżej 10 V. Umieszczona pomiędzy obu zestawami płyt szklanych 1 i 2 ramka dystansowa 3 odizolowana jest galwanicznie od warstwy metalu 5 zestawu wewnętrznego płyty szklanej 1 za pomocą izolującego kleju butylowego 8, który jednocześnie łączy trwale ze sobą oba zestawy płyt szklanych 1 i 2. Z kolei zewnętrzny zestaw płyt szklanych 2 stanowią dwie równolegle usytuowane względem siebie płaskie płyty szklane 9 i 10 trwale połączone ze sobą oraz umieszczonym pomiędzy nimi ogniwem fotowoltaicznym 11 za pomocą kleju butylowego 12 przy czym ogniwo to jest wyposażone w przewód 13 odprowadzający wytworzony przez niego prąd elektryczny a ponad to zarówno wszystkie zewnętrzne krawędzie jak i czoła na centralnym zewnętrznym obwodzie tej szyby zespolonej uszczelnione są uszczelniaczem butylowym 14.
PL233211 Folia optoelektroniczna oraz sposób wytwarzania folii optoelektronicznej, Saule Sp z.o.o. OLGA MALINKIEWICZ et al. Data patentu: 30.09.2019. Przedmiotem niniejszego wynalazku jest folia optoelektroniczna oraz sposób jej wytwarzania. Przedmiot wynalazku przedstawiono w przykładzie wykonania na rysunku, na którym:
Fig.1 – przedstawia schematycznie budowę folii optoelektronicznej w przekroju poprzecznym;
Fig.2 – przedstawia schemat blokowy procesu wytwarzania folii optoelektronicznej.
Na Fig.1 przedstawiono schematycznie folię optoelektroniczną w przekroju poprzecznym, z uwidocznieniem warstwowej konstrukcji folii. Folia optoelektroniczna ma podłoże 11 z warstwą barierową 12, na którym osadzona jest warstwa przewodząca 13 zawierająca co najmniej jedną warstwę tlenkową 131 oraz co najmniej jedną warstwę metalową 132.
Warstwa barierowa to mikroporowata warstwa na powierzchni podłoża, która zapobiega przedostawaniu się pary wodnej do powierzchni podłoża. Podłoże 11 folii optoelektronicznej 10 może być wykonane z różnych przeświecalnych materiałów podłożowych, wybranych z grupy składającej się z tworzyw sztucznych oraz/lub tworzyw sztucznych z nanokompozytami z materiałów nieorganicznych. Warstwa barierowa 12 folii 10 pełni funkcję barierową oraz uniemożliwia przenikanie wilgoci oraz tlenu od podłoża 11 do warstwy przewodzącej 13, zapewniając tym samym znaczące ograniczenie procesów degradacji warstwy przewodzącej, stanowiącej element optoelektroniczny folii 10 oraz warstw aktywnych urządzenia, które może być naniesione na folię optoelektroniczną 10.
W jednym przykładzie wykonania warstwa barierowa może mieć przykładowo postać monowarstwy składającej się wyłącznie z jednego materiału, na przykład AI2O3. W innym przykładzie wykonania warstwa barierowa może mieć postać monowarstwy zawierającej co najmniej dwa różne materiały i może być wykonana przykładowo z AI2O3 domieszkowanego TiO2. Warstwa przewodząca 13 stanowi optoelektronicznie aktywną warstwę folii o właściwościach przewodzących. Warstwa przewodząca 13 zawiera co najmniej jedną warstwę tlenkową 131,133 oraz co najmniej jedną warstwę metalową 132, ułożone jedna na drugiej. Ponadto, jak przedstawiono na Fig.1, warstwa przewodząca może zawierać co najmniej dwie warstwy tlenkowe 131 i 133, lub też więcej niż dwie warstwy tlenkowe, oddzielone warstwami metalowymi 132 – tworząc architekturę kanapkową. Wszystkie warstwy 131,132,133 są ułożone w warstwie przewodzącej 13 jedna na drugiej, zasadniczo równolegle. W jednym przykładzie wykonania warstwa tlenkowa 131,133 może mieć postać monowarstwy oraz składać się z jednego rodzaju tlenku, z grupy tlenków wymienionej powyżej, przykładowo ITO (tlenek indu cyny),. W innym przykładzie wykonania warstwa tlenkowa może mieć postać monowarstwy oraz składać się z więcej niż jednego materiału, na przykład warstwa tlenkowa 131,133, w postaci monowarstwy może być wykonana z ZnO domieszkowanego Al.
Wytworzona folia optoelektroniczna łączy w sobie właściwości barierowe oraz sprawną warstwę przewodzącą 13, która korzystnie może mieć architekturę elektrody, w zależności od zastosowanych materiałów użytych odpowiednio jako materiały na warstwy tlenkowe i metalowe 131,132,133. Warstwa przewodząca 13 w każdym przypadku wykonania folii 10 jest zintegrowana z elastycznym podłożem 11,12 o właściwościach barierowych. Warstwa barierowa folii optoelektronicznej ma współczynniki przepuszczalności pary wodnej WVTR w zakresie od 10-3 do 10-6 g/m2 na dzień i wykazuje stabilne właściwości barierowe, w tym wysoką hydrofobowość oraz odporność na promieniowanie UV, co zapewnia przedłużoną żywotność warstwy przewodzącej folii według wynalazku.
PLEP 3227394 Kompozycja powłokotwórcza oraz sposób wytwarzania powłoki fotoaktywnej, Saule Sp. z o.o., OLGA MALINKIEWICZ, Data patentu: 03.07.2019. Opis patentowy dotyczy kompozycji powłokotwórczej oraz sposobu wytwarzania powłoki fotoaktywnej. Powłoki fotoaktywne wykorzystywane są przy wytwarzaniu ogniw fotowoltaicznych, to jest elementów półprzewodnikowych służących do konwersji promieniowania słonecznego na energię elektryczną. Warstwa fotoaktywna pełni w ogniwach fotowoltaicznych funkcję absorbera promieni słonecznych (fotonów), dlatego nanosi się ją zazwyczaj na zewnętrzną powierzchnię ogniwa, którą w zależności od potrzeb można dodatkowo pokryć zewnętrzną warstwą ochronną. Tusze fotoaktywne są jednym ze znanych rodzajów powłok fotoaktywnych. Jedną z zalet tuszu fotoaktywnego jest łatwy oraz niedrogi sposób nanoszenia tuszu na podłoże – tusz nadrukowuje się, przy czym wybór techniki drukarskiej zależy od rodzaju podłoża oraz fizycznych właściwości tuszu takich jak lepkość czy zdolność adhezji. Nanoszenie kompozycji powłokotwórczej może być realizowane różnymi konwencjonalnie wykorzystywanymi technikami nanoszenia, przykładowo kompozycja może być nanoszona z wykorzystaniem metod druku cyfrowego, offsetowego lub fleksograficznego, w szczególności takich jak: technologia ink-jet, drukowanie elektrograficzne, drukowanie termograficzne. Kompozycję można nanosić ponadto takimi technikami nanoszenia jak poprzez natrysk czy z wykorzystaniem technik mokrych, na przykład: powlekanie wirowe (ang. spin-coating), powlekanie raklowe (ang. blade-coating), powlekanie meniskowe (ang. meniscus coating) oraz technik nanoszenia z fazy gazowej, na przykład techniki vapour assisted.
Przedmiot rozwiązania przedstawiono w przykładach wykonania na rysunku na którym:
Fig.1 przedstawia przykładowe rekcje utwardzania kompozycji fotoaktywnej; Fig.2 przedstawia wykres zależności wielkości przerwy energetycznej od stechiometrycznego składu I oraz Br (MA oznacza ugrupowanie CH3NH3+); Fig.3 przedstawia schematycznie dwuetapowy sposób wytwarzania powłoki fotoaktywnej z kompozycji zawierającej dwa odseparowane ciekłe komponenty; Fig.4 przedstawia schematycznie dwuetapowy sposób wytwarzania powłoki fotoaktywnej z kompozycji zawierającej dwa odseparowane ciekłe komponenty; Fig.5 przedstawia schematycznie jednoetapowy sposób wytwarzania powłoki fotoaktywnej z kompozycji zawierającej dwa odseparowane komponenty, przy czym jeden komponent jest ciekłym komponentem, a drugi komponent jest w formie proszku; Fig.6 przedstawia schematycznie dwuetapowy sposób wytwarzania powłoki fotoaktywnej z kompozycji zawierającej dwa odseparowane komponenty, przy czym oba komponenty są w formie proszku; Fig.7 przedstawia schematycznie przykładową bitmapę służącą do druku; Fig.8 przedstawia schematycznie powłokę wytworzoną z tuszu zawierającego kompozycję powłokotwórczą; Fig.9 przedstawia schematycznie tusz osadzony na powierzchni szklanej oraz powierzchniach wykonanych z TIO i TPD; Fig.10 przedstawia schematycznie powłokę świeżo nadrukowanego tuszu; Fig.11 przedstawia schematycznie tusz na podłożu pokrytym warstwą poliTPD; Fig.12 przedstawia schematycznie tusz na podłożu pokrytym polyTPD zmodyfikowanym plazmą; Fig.13 przedstawia schematycznie tusz osadzony na podłożu szklanym; Fig.14 przedstawia schematycznie tusz po wysuszeniu t.j. utwardzeniu powłoki.
Kompozycja powłokotwórcza zawiera co najmniej jeden komponent potrzebny do syntezy materiału perowskitowego, a korzystnie co najmniej dwa komponenty. W tym co najmniej jeden komponent powłokotwórczy o wzorze ogólnym RyMXy+2 gdzie M jest dwuwartościowym kationem metalu wybranym z grupy składającej się z: Sn, Pb, Cs, Ca, Sr, Cd, Cu, Mi, Mn, Fe, Co, Pd, Ge, Sn, Yb oraz Eu, a bardziej korzystnie dwuwartościowym kationem metalu wybrany z grupy składającej się z Sn oraz Pb; X jest anionem halogenkowym to jest przykładowo anion: F-, Cl-, Br-, I-, gdzie y+2 oznacza ilość anionów halogenkowych; R jest podstawionym lub niepodstawionym kationem organicznym (C1 – C20), zawierającym od 1 do 20 atomów węgla w cząsteczce oraz opcjonalnie zawierający wodór, azot i/ lub tlen, przykładowo kationem R może być związek o wzorze HC(NH2)2+ przy czym y korzystnie wynosi 0 lub 1.
Na Fig.3 przedstawiono schematycznie jednoetapowy sposób nanoszenia kompozycji powłokotwórczej na podłoże. Kompozycję można nanosić na podłoże 31 dowolną znaną techniką w zależności od jej właściwości, które są związane z rodzajem oraz ilością wprowadzonych substancji pomocniczych takich jak rozpuszczalniki czy dodatki. Przykładowo kompozycję można nanosić na podłoże 31 w postaci tuszu zawierającego co najmniej jeden komponent z grupy RyM(a)zXy+(z*a), co najmniej jeden komponent z grupy RyMXy+2 oraz rozpuszczalnik 32 z zastosowaniem techniki powlekania obrotowego (ang. spin-coating). Proces utwardzania powłoki polegający na reakcji komponentu o wzorze RyM(a)zXy+(z*a), na przykład komponentu organicznego:CH3NH3I z komponentem o wzorze RyMXy+2 na przykład komponentem nieorganicznym:PbBr2 z wytworzeniem produktu, to jest powłoki 33 o strukturze perowskitu (CH3NH3PbBrI2) obejmuje wygrzewanie warstwy tuszu 12 w temperaturze od 100 do 150OC w czasie zapewniającym przereagowanie substratów, który korzystnie może wynosić od 10 do 20 min, a bardzie korzystnie 15 min.
Zestalona powłoka 33 zawiera strukturę perowskitu o składzie chemicznym wynikającym z składu reagentów, to jest komponentu organicznego oraz komponentu nieorganicznego. Zawartość poszczególnych komponentów substancji powłokotwórczej, dobiera się stechiometrycznie–zgodnie ze stechiometrią odpowiedniej reakcji utwardzania powłoki (przykładowe reakcje utwardzania przedstawiono na Fig.1, tak aby zapewnić całkowite przereagowanie substratów naniesionych na podłoże. Ilość pozostałych składników kompozycji powłokotwórczej dobiera się w zależności od potrzeb, na przykład założonej gęstości czy lepkości. Zawartość rozpuszczalnika dla kompozycji w postaci tuszu może wynosić od 0,01% wag. do 99,99% wag.
Na Fig.4 przedstawiono kilkuetapowy sposób nanoszenia kompozycji powłokotwórczej. Komponenty substancji powłokotwórczej 41,42 są fizycznie odseparowane przed procesem utwardzania powłoki i zostają wymieszane w momencie naniesienia na podłoże 43. Kilkuetapowe nanoszenie kompozycji na podłoże może być realizowane za pomocą jednej lub kilku znanych technik nanoszenia. Na Fig.4 przedstawiono przykładowy sposób nanoszenia kompozycji z wykorzystaniem techniki powlekania obrotowego (ang. spin-coating). Proces obejmuje naniesienie pierwszego komponentu powłokotwórczego 41, przykładowo w postaci roztworu PbBr2 w DMF oraz naniesienie drugiego komponentu powłokotwórczego 42, przykładowo w postaci roztworu CH3NH3I w IPA, przy czym w zależności od potrzeb, w pierwszej kolejności można nanosić komponent o wzorze ogólnym RyM(a)zXy+z*a, a w drugim etapie komponent nieorganiczny (o wzorze ogólnym RyMXy+2) lub też w pierwszym etapie można nanosić komponent nieorganiczny a w drugim etapie komponent o wzorze ogólnym RyM(a)zXy+z*a. W wyniku przereagowania komponentów następuje wytworzenie struktury perowskitu (CH3NH3PbBrI2) 44 czyli utwardzenie kompozycji na podłożu. W zależności od doboru komponentów powłokotwórczych, proces utwardzania prowadzi się w temperaturze pokojowej, lub powłokę wygrzewa się jak przedstawiono na Fig.4.
Na Fig.14A–14B przedstawiono zdjęcia wykonane mikroskopem optycznym, na których wyraźnie widoczne są granulki wytworzone podczas suszenia warstwy. Wytworzona powłoka fotoaktywna będąca produktem utwardzania kompozycji powłokotwórczej charakteryzuje się wysoką absorbcją fotonów, a ogniwa fotowoltaiczne z powłoką w postaci perowskitu wytworzoną z przedstawionej tu kompozycji powłokotwórczej charakteryzują się wysoką wydajnością.
WNIOSKI
FOTONICZNA WIELOFUNKCYJNA SZYBA ZESPOLONA – PVGLASS+ FOTONICZNA WIELOFUNKCYJNA SZYBA ZESPOLONA – ML SYSTEM SA, to moduł szyby zespolonej ze zintegrowaną warstwą fotoniczną, grzewczą oraz fotowoltaiczną. Składa się z trzech, równolegle do siebie położonych formatek szkła oddzielonych ramką izolacyjną. Na środkową formatkę szkła nanoszona jest warstwa fotoniczna, która w połączeniu z odpowiednio dobranymi diodami LED pozwala na regulowanie transparentności szyby. Warstwa wewnętrzna stanowi zintegrowaną warstwę grzewczą (energia elektryczna przechodząca przez naniesioną na szybę niewidoczną warstwę tlenku metalu nagrzewa się do temperatury roboczej 20°C-60°C, generując ciepło), natomiast warstwa zewnętrzna zawierająca ogniwa fotowoltaiczne (w zależności od potrzeb klienta mogą to być ogniwa I,III,III generacji) pozwala na generowanie uzysków energii elektrycznej. Tak jak każda szyba zespolona produkcji ML System, PVGLASS+ również może służyć jako wypełnienie fasady słupowo ryglowej lub świetlików szklanych, z uwagi na stawiane wymagania dotyczące odpowiedniej izolacyjności cieplnej wykorzystuje się przeszklenia w formie zespoleń. W tego typu konstrukcjach także mają zastosowania ogniwa fotowoltaiczne montowane w szybie laminowanej będące pierwszą powłoką od strony zewnętrznej zespolenia.
Saule Technologies prezentuje swoją przełomową technologię fotowoltaiczną opartą na perowskitach na Expo 2020 Dubai. Odwiedzający Pawilon Polski w Dubaju mogą ładować swoje telefony energią słoneczną z systemu PV wbudowanego w fasadę.
Instalacja Saule Technologies składa się z 20 pionowych elementów liniowych o łącznej powierzchni 2 m2. Dzięki technologii druku atramentowego cienkie i elastyczne ogniwa perowskitu są bezpośrednio zintegrowane z zewnętrzną ścianą pawilonu, pasując do jego stylu architektonicznego. System o łącznej mocy nominalnej 200 W zapewnia usługę ładowania smartfona za pomocą 8 portów USB oraz kieszeni na telefony ułatwiających przechowywanie urządzenia podczas ładowania. Ogniwa Perovskite są bardzo wydajne zarówno w świetle naturalnym, jak i sztucznym, co sprawia, że stacja ładująca przydaje się również w godzinach wieczornych. https://sauletech.com/perovskites-featured-in-the-polish-pavilion-at-expo-2020-dubai/
W Lublinie 24 sierpnia 2021 Saule Technologies uruchomiło pierwszą instalację żaluzji fotowoltaicznych – łamaczy słońca z perowskitowymi ogniwami słonecznymi. To pierwsze na świecie komercyjne wdrożenie technologii perowskitowych ogniw słonecznych było współpracą z klientem firmą Aliplast.
Światowa premiera instalacji Sun Breaker z perowskitowymi modułami słonecznymi (sauletech.com)
https://www.youtube.com/watch?v=vaXsYQuOMYs